資訊中心NEWS CENTER
在發(fā)展中求生存,不斷完善,以良好信譽(yù)和科學(xué)的管理促進(jìn)企業(yè)迅速發(fā)展紅外干涉測厚儀是一種基于干涉原理的非接觸式厚度測量儀器,它利用紅外光源與被測物體之間的相互作用,準(zhǔn)確測量其表面或薄膜的厚度。其核心原理為光的干涉現(xiàn)象,通過檢測光波的相位變化來確定厚度值。1.光的干涉現(xiàn)象光干涉是指兩束或多束光波在相遇時發(fā)生疊加的現(xiàn)象。如果兩束光波的相位相同或相差一定的倍數(shù),它們會發(fā)生相長干涉,反之則會發(fā)生相消干涉。利用這一特性,干涉儀能夠通過測量兩束光的干涉條紋來推算物體的厚度。紅外干涉測厚儀使用的是紅外光,其波長較長,適用于測量非透明材料和透明薄膜材料,能夠...
查看詳情橢偏儀是一種精密的光學(xué)測試設(shè)備,廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、薄膜分析、半導(dǎo)體制造、光電器件研發(fā)等領(lǐng)域。它通過測量反射或透射光的偏振狀態(tài)變化,來獲取樣品的光學(xué)特性、薄膜厚度、折射率、吸收系數(shù)等信息。由于其高精度和高靈敏度,橢偏儀在許多技術(shù)領(lǐng)域中都具有不可替代的作用。因此,選擇一個合適的橢偏儀廠家,對于確保設(shè)備的質(zhì)量、性能和售后服務(wù)至關(guān)重要。1.廠家的技術(shù)能力和經(jīng)驗選擇時,需要考察廠家的技術(shù)能力和行業(yè)經(jīng)驗。一個具有豐富技術(shù)積累和行業(yè)經(jīng)驗的廠家,通常能夠提供高性能、穩(wěn)定的設(shè)備,并且能針對客...
查看詳情正確的安裝和調(diào)試是確保光學(xué)薄膜測厚儀高效運(yùn)行和獲得準(zhǔn)確測量結(jié)果的基礎(chǔ)。本文將詳細(xì)介紹相關(guān)的安裝方法,涵蓋從安裝環(huán)境選擇到調(diào)試的各個方面,幫助用戶確保設(shè)備的正確安裝與順利使用。一、安裝準(zhǔn)備在開始安裝之前,需要做好充分的準(zhǔn)備工作。這些準(zhǔn)備工作包括選擇合適的安裝環(huán)境、檢查設(shè)備配件以及準(zhǔn)備必要的工具。1.安裝環(huán)境的選擇儀器對環(huán)境要求較高,因此在選擇安裝位置時應(yīng)考慮以下幾點:潔凈環(huán)境:對灰塵、污垢等污染物敏感,因此須選擇一個潔凈、無塵的環(huán)境進(jìn)行安裝。選擇在潔凈室或具備良好空氣流通的環(huán)境...
查看詳情隨著現(xiàn)代科技的快速發(fā)展,反射膜厚儀作為一種高精度、高效率的薄膜厚度測量儀器,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、材料科學(xué)、電子工程等領(lǐng)域。在各種薄膜材料的生產(chǎn)和研發(fā)過程中,準(zhǔn)確測量薄膜的厚度是至關(guān)重要的,它直接關(guān)系到產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。工作原理:其核心思想是利用光的反射來測量薄膜的厚度。在測量過程中,入射光照射到薄膜表面時,部分光會被薄膜表面反射,而部分光則透過薄膜并在薄膜底部反射回來。這兩部分光的干涉結(jié)果,即兩束光波相遇時的相位差,將決定薄膜的厚度。1.光的反射與干涉當(dāng)光照射到薄膜上時,...
查看詳情紅外橢偏儀是一種重要的光學(xué)測量工具,它通過分析材料表面的反射光波的偏振變化,精確地測量薄膜的光學(xué)常數(shù)、厚度等參數(shù)。其工作原理基于橢偏光學(xué)原理,廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體、光學(xué)涂層、化學(xué)分析等多個領(lǐng)域。隨著技術(shù)的進(jìn)步,應(yīng)用范圍也在不斷拓展,成為研究和生產(chǎn)中重要的工具之一。本文將詳細(xì)探討紅外橢偏儀在不同應(yīng)用領(lǐng)域的作用及其前景,幫助我們深入理解這一儀器的多樣性及其重要性。一、材料科學(xué)與薄膜分析1.1材料的光學(xué)常數(shù)測量廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)中的光學(xué)常數(shù)測量。光學(xué)常數(shù)包括折射率和吸收系數(shù)等...
查看詳情在半導(dǎo)體工業(yè)中,薄膜技術(shù)廣泛應(yīng)用于集成電路、光電器件以及傳感器等領(lǐng)域。薄膜的厚度是影響器件性能和可靠性的關(guān)鍵因素之一,因此,精準(zhǔn)的薄膜厚度測量至關(guān)重要。薄膜厚度測量儀器作為半導(dǎo)體制造過程中的工具,發(fā)揮著重要作用。一、薄膜厚度的測量方法薄膜厚度的測量方法主要有幾種,其中常見的包括光學(xué)干涉法、X射線反射法、納米壓痕法和原子力顯微鏡(AFM)法等。這些方法各有優(yōu)缺點,通常根據(jù)實際需求和膜層材料的特性來選擇合適的測量方法。1.光學(xué)干涉法:利用光在薄膜界面發(fā)生干涉現(xiàn)象來測量薄膜厚度。該...
查看詳情Copyright©2025 武漢頤光科技有限公司 版權(quán)所有 備案號:鄂ICP備17018907號-2 sitemap.xml 技術(shù)支持:化工儀器網(wǎng) 管理登陸